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他厂商。
由于芯片技术的不断的进步，制程也越来越细，使得对于芯片生产的光刀要求越来越精细。
而这样的光到需要多长更短的光源才能够生产制程更低的芯片。
上个世纪光刻机光源卡死在193纳米这道坎上，这也成为了整个产业的一道难关。
怎么将193纳米光波磨细一点，成为了整个光刻机行业的头等难题。
只要谁能够突破这道难题，就能够真正的把握整个光刻机未来的发展方向。
在其他厂商都在研发极紫光技术，寻求突破时，阿斯麦采用了台积电提出的沉浸式光刻机方案真正的实现了弯道超车突破了193纳米的难关。
这种方案就是在光刻机的中间加入大量的水，通过详细的计算使得原先的光束在经过水的折射之后变得更细，从而实现更为精细的纳米制程工艺生产。
当然这种方案非常的耗费生产的成本，不过由于这种方法是一种技术方面突破自然被行业广泛运用。
而台积电和阿斯麦由于拥有着非常紧密的合作，最终台积电也靠着阿斯麦的弯道超车，真正意义上的从岛国的手中夺得了半导体生产霸主的位置。
以干刻技术为主的尼康等老牌半导体渐渐的落寞，最终消失在时代的洪流中。
而靠着湿刻技术正是崛起的阿斯麦也成为了整个半导体光刻机行业之中的霸主，垄断了整个光刻机行业80%以上的份额。
“这是极紫光技术！”
科学院众人看着手中打印出来的文本，脸上也露出了不可思议的神色。
显然这项技术可是关系着未来国内半导体行业的兴衰。
去年年底，唐浩便将这些技术交给了华国科学院的主打半导体领域的学士。
而唐浩的这项发展研发光刻机的技术正是和阿斯麦相反的极紫光技术，这种技术是通过专门的几次反射到达光线波长符合更为精细的光刀。
这些半导体领域的学士在看到这样的技术之后，也完全的被震惊到了。
虽然这上面写的可是理论方面的知识，但是要知道上个世纪西方可谓是费尽周折，都无法将这项技术突破，最后只能暂时的选择阿斯麦的方式去生产光刻机。
而运用了唐浩的这样的理论知识，若是真的能够真正的将理论实现，那么很有可能国内的半导体行业将会迎来又一次的弯道超车，从而实现真正的复兴。
“唐先生的这项技术我们几个已经完全的验证了，基本上是正确的，按照唐先生所说，若是能够真的将理论实现的话，那么我们国内的光刻机技术立马就可以进入七纳米以内的时代！并且随着技术核心材料的变动，制程还能更进一步！”
“同时上面也同意以科学院为首，唐浩个人，国资委，上海微电子公司四方进行合作，这是成立一家专门研发新技术光刻机的公司！”
“国家预计出资三千亿元，务必能够生产出我们华国自己的光刻机！”
作为这一次会谈的主持人，一个年过70的院士，缓缓地从位子上面站了起来，语气极为激动地向着其他的院士说道。
显然如今的国家已经开始重视半导体的发展，当唐浩拿出了这样的技术之后，就已经注定了国家必须要参与进这项半导体事业。
估计再过不久，一家新的光刻机生产公司便会出现在国内。
预计在明年或者是后年，华国便会拥有了自主研发的光刻机！
而在座的众多院士也是面色激动，有些甚至老泪纵横，很显然他们等待这一天等了太久。
毕竟只要半导体的技术突破了，那么华国崛起将无所畏惧。